超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射（Sputtering）工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。 高纯溅射靶材行业产业链 高纯溅射靶材行业属于电子材料领域，其产业链上下游关系如下： 高纯金属及溅射靶材是电子材料的重要组成部分，溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节，其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节。 在药物范围内，溅射靶材产业链各环节参与企业数量基本呈金字塔型分布，高纯溅射靶材制造环节技术门槛高、设备投资大，具有规模化生产能力的企业数量相对较少，主要分布在美国、日本等国家和地区，其中，部分企业同时开展金属提纯业务，将产业链延伸到上游领域；部分企业只拥有溅射靶材生产能力，高纯度金属需要上游企业供应。 溅射靶材产业分布具有一定的区域性特征，美国、日本跨国集团产业链完整，囊括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用各个环节，具备规模化生产能力，在掌握**技术以后实施垄断和封锁，主导着技术革新和产业发展；韩国、新加坡及中国台湾地区在磁记录及光学薄膜领域有所特长。另外由于上述地区芯片及液晶面板产业发展较早，促使服务分工明确，可以为产业链下游的品牌企业提供如焊接、清洗、包装等药物代工服务，将上游基础材料和下游终端应用对接，起到承上启下的作用，并在一定程度上推动上游溅射靶材的产品开发和市场扩展。但是上述地区的靶材服务厂商缺少核心技术及装备，不能够在金属的提纯、组织的控制等核心技术领域形成竞争力溅射靶材的材料即靶坯依然依赖美国和日本的进口。超高纯金属材料及溅射靶材在我国还属于较新的行业，以芯片制造厂商、液晶面板制造企业为代表的下游溅射镀膜和终端用户正在加大力度扩展产能。从药物来看，芯片及液晶面板行业制造向中国大陆转移趋势愈演愈烈，中国正在迎来这一领域的投资高峰。 供应各种高纯材料、镀膜材料、溅射靶材、功能材料，以坚强的技术为基础，我公司开发了多个系列的新材料，这些产品已在航空航天、军工、信息电子、真空镀膜、冶金、功能材料、生物医药、新能源等行业获得广泛应用。目前拥有镀膜材料、溅射靶材、高纯材料、高纯合金等多条生产线，生产设备 ，工艺完善。 提供的金属靶材产品按元素分类： 1.钪元素(Sc):主要产品有高纯金属钪、金属钪靶材、2%Sc-AL合金、20%Sc-Al合金、2%Sc-Mg合金，10%Sc-Mg合金，2.15%Sc-8.8%Ni-8.8%Gd-1.5%Gd合金和其它钪合金、靶材等. 2.钇元素(Y): 主要产品有工业纯度金属钇、高纯度金属钇、金属钇靶材、钇锆合金、钇铝合金、钇镁合金和其它钇合金、靶材等. 3.镧元素(La): 主要产品有工业纯度的金属镧、金属镧靶材、镧镍合金、镧铈合金、镧铝合金及其它镧合金、靶材等. 4.铈元素(Ce): 主要产品有工业纯度的金属铈、金属铈靶、铈-铝合金、镧-铈合金及其它铈合金、靶材等. 5.镨元素(Pr): 主要产品有工业纯度的金属镨、金属镨靶材、镨-钕合金及其它镨合金、靶材等. 6.钕元素(Nd): 主要产品有工地纯度金属钕、金属钕靶材、钕-铁合金、镧铈镨钕合金及其它钕合金、靶材等.钐元素(Sm): 主要产品有高纯度金属钐、金属钐靶材、钐-钴合金及其它钐合金、靶材等. 7.铕元素(Eu): 主要产品有高纯金属铕. 8.钆元素(Gd): 主要产品有工业纯度的金属钆、高纯度的金属钆、金属钆靶材、钆铁钴合金、钆钛锆合金、钆钛合金及其它钆合金、靶材等.铽元素。 包装及保存说明 1.出库包装:内部真空袋真空包装,外部为定制产品靶材盒,纸箱快递运输 2.储存方法:收到产品后,需储存于干燥环境,密封包装,轻拿轻放,防压防撞 3.使用注意:使用前观察靶材表面是否清洁,带上干净的手套操作, 避免直接用手接触物料,勿被油污等异物污染 温馨提示：提供各种靶材形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆棒，台阶圆片，台阶矩形，三角形，管状靶，套靶等或按客户要求订做，可根据客户提供的图纸要求加工. 并可以为客户提供部分靶材的定制服务. 提供的所有产品仅用于科研，axc.2021.01.21